Cinétique d'électrodéposition de semi-conducteurs à bas de soufre

Abstract

Dans ce travail, on tente de préparer un film mince de CdS par électrodéposition d'impulsions sur des substrats en acier doux en utilisant un système à trois électrodes à partir d'une solution aqueuse contenant du sulfate de cadmium (CdSO,) comme source de cadmium, du thiosulfate de sodium (Na,S;0.SH;0) comme source de soufre et l'acide oxalique comme agent complexant. Le revêtement a été visualisé par analyse MEB elestrochimique est étudiée par spectroscopie d'impédance électrochimique. et la caractérisation