Élaboration de semi-conducteurs de couche mince à base de zinc par voie électrolytique

Abstract

Ce travail porte sur l’élaboration de couches minces de ZnS par électrodéposition, en étudiant l’influence de certains paramètres essentiels sur les propriétés des films. Les dépôts ont été réalisés sur substrat de cuivre à partir d’un bain contenant ZnSO₄, Na₂S₂O₃ et Na₃C₆H₅O₇. Les techniques de voltampérométrie cyclique et de chronoampérométrie ont été utilisées pour analyser la cinétique de dépôt. Les résultats ont montré que les meilleures couches ont été obtenues avec une concentration de ZnSO₄ de 0,03 mol/L, un potentiel de dépôt de –1300 mV, et un temps de dépôt de 15 minutes. L’ajout de NiSO4 dans le bain a causé des changements remarquables sur le processus d’électrodéposition de ZnS. Cet effet indique que la présence des ions de Ni2+ dans l’électrolyte active la cinétique d’électrodéposition de ZnS.