Comportement électrochimique du Cuivre en milieux acide en présence de différentes substances inhibitrices

Abstract

L'objectif principal de cette thèse est d'étudier le comportement électrochimique du cuivre et son processus de dissolution anodique en milieu acide, puis sa protection par des molécules nouvellement testées ; le p-toluènesulfonylhydrazide « p-TSH)» a été testé dans HCl 0,5M, et l’iodate de potassium dans une solution de . L'étude a été réalisée en utilisant la perte de masse, les méthodes électrochimiques, la caractérisation morphologique et les calculs chimiques quantiques. Les résultats électrochimiques a montré qu’une vitesse de 30 mV / min permet d’obtenir un état quasi-stationnaire et une bonne répétabilité des résultats. Aux surtensions très anodiques nous avons pu mettre en évidence la formation d’une couche de CuCl. La caractérisation de la surface a révélé une porosité de la couche de CuCl, cela est dû essentiellement aux ions présents dans la solution. L’étude de l’inhibition a constaté que le p-TSH et le , sont des bons inhibiteurs de la corrosion du cuivre en milieu acide, ainsi une efficacité maximale de 93% est atteinte à 5 mM de p-TSH dans 0,5 M HCl, et est de 88.25% à 10 µM de dans 1M . Le de p-TSH est de type cathodique, alors que le et de type mixte. L’adsorption des deux molécules obéit à une isotherme de type Langmuir. L’effet de la température a permis de calculer les grandeurs énergétiques d’activation et d’adsorption. Enfin, les simulations de la chimie quantique ont confirmé nos résultats électrochimiques, et permis de proposer un mode d’action de ces deux molécules sur la surface du cuivre. Mots clés : Cuivre; Dissolution anodique; Corrosion, p-Toluènesulfonyl hydrazide, , DFT